第40回インターネプコンジャパン出展のお知らせ

＝洗浄×分析のノウハウから、フラックス洗浄の課題解決へ＝

ゼストロンはフラックス洗浄剤メーカーとして、洗浄剤のみの提供にとどまらず、
洗浄プロセスの最適化と分析技術による課題の可視化を通じて、お客様の現場課題を解決へ導きます。

電子実装工程で求められる「洗浄品質の安定化」や「残渣リスク低減」に向けて、豊富な実験データや共同研究成果をもとに、洗浄ソリューションをご提案します。

展示会概要

会期	2026年1月21日（水）～23日（金）10:00~17:00
会場	東京ビッグサイト　東展示場
小間	E１-26《東4ホール出入口から入場いただき、はんだブース内にございます。》
入場バッジ登録	https://www.nepconjapan.jp/tokyo/ja-jp/register.html/
来場に関するFAQ	https://www.nepconjapan.jp/tokyo/ja-jp/visit/faq.html

展示内容一例
フラックス洗浄の基礎知識から最新トレンドまでをご案内します

＜ゼストロンブースの見どころ＞

■ 共同研究で挑む、難洗浄の課題解決
はんだ・シンターメーカー様、SMT実装会社様との共同研究成果を発表。無洗浄はんだやシンター、低スタンドオフなど、近年注目される難洗浄領域の課題に対し、材料特性・洗浄条件・残渣分析の観点から最適化のヒントを紹介します。

■ 洗浄プロセスの「見える化」
「なぜ洗う？」「どう洗う？」をテーマに、フラックス洗浄の基礎知識を体系的に解説。
※洗浄プロセス開発現場を体感できる360°バーチャルツアーも公開！

■ 分析力で不良要因を特定し、洗浄トラブルを解決へ導く
外観観察だけでは判断できない微小残渣やイオン残渣、金属塩を含む複合的なフラックス残渣を当社の分析技術で可視化。
「洗浄しても絶縁抵抗が安定しない」「歩留まりを改善したい」といった課題を、洗浄×分析のノウハウで解決へ導きます。